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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为8寸大晶圆研发线配合的超蒸馏水软件系统,每日所产生含硅废污水150吨。废污水里面虽无高价属,但硅含量高易积垢,且阻值率需起到18MΩ·cm才能够循环。和原有办理工学院艺就没有办法充分考虑新颁发的《电子器材工业生产水感染物直接摆放规范标准》(GB39731-2020)特意直接摆放限制值。 电镀废水材料基本特征 主要废弃物物 :固体硅(200-300mg/L)、粒状硅(粒度0.1-1μm) 特出规定 :TOC<10μg/L,硼的含量<5μg/L 生活饮用水性质 :低导电率(<50μS/cm)但硅类化合物行态非常复杂 治疗方法流程图 改革创新用于"梯级膜分开+电去阴离子"团体施工工艺: 微滤预进行处理 :1μm工业陶瓷膜短信拦截大颗粒物硅,通量能维持80LMH 阳离子互相交换树脂胶 :D201大孔环氧树脂会选择吸附性硅酸碳原子 二次元RO体系 :一号段的回收利用率60%,第二名段按照高脱硼膜部件 EDI电去正离子 :电压电流密度计算2A/m²,继续我们要除多余阴离子 紫外光除菌 :254nm分光光度计线的用药量40mJ/cm² 新技术优点 开发技术常用阻硅剂(有机酸胺类pp物),延迟膜空气污染时间段3倍 EDI信息模块改革创新流道来设计,硅祛除率完善至99.8% 线下硅分析一下仪(校正范围内0.1-500μg/L)构建识贫管控 作业取得的成绩 经第三个方加测: 总硅从280mg/L下降0.05mg/L 硼含量的从8μg/L下降0.3μg/L 软件收购 率从原40%完善至68% 膜变更期延长时间至5年,年运营成本预算缩减35%

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